Alta resistencia a la compresión
-Fácil de pulir, alto brillo.
-Alta estética, resultados naturales.
-Resistente al desgaste y las manchas.
-Se mimetiza, efecto camaleónico.
-Radiopaco.
-Baja contracción.
-No se adhiere a instrumentos de teflón
Marca | Smile Designers |
Línea | CHRO-MA |
Fórmula | Microrrelleno _ Nanohibrida de alta estética |
Composición | Dióxido de silicio cristalino ahumado, Bisg-ma, Estabilizador, Iniciadores de fotos |
Material | Resina en Pasta Nanohibrida |
Contenido | 1 Jeringa 4gr. |
Color | WX – WXE – WXD – A1 – A2 |
Tensión Flexural | 130 Mpa |
Profundicad de Curado | 2,35-2,28 mm |
Resistencia a la Tracción Diametral | 130 Mpa |
Temperatura de almacenamiento | 29,9 – 30,5°C. |
Humedad de Almacenamiento | 60 – 61%. |
Tiempo de Fotocurado | 30 seg |
Contiene | Accesorios, Manual |
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